Post-doc en élaboration Et Caractérisations de - Lyon, France - ECOLE CENTRALE DE LYON
Description
Le premier objectif concernera la réalisation de condensateurs ferroélectriques de type MIM (Métal-Isolant-Métal) ou MIS (Métal-Isolant-Semiconducteur) à base de HfOx dopé par dépôt de type PVD (physical vapor deposition) et ALD (Atomic Layer Deposition). Plusieurs paramètres de dépôts seront explorés (nombre de cycles ALD, type de précurseurs, budget thermique, puissance, substrats, électrodes, etc.)Dans un deuxième temps, les structures fabriquées seront analysées électriquement (mesures de type PUND, courant de fuite, endurance, rétention, ) et structurellement (XRD, XPS, AFM) afin (i) d'extraire leurs performances, (ii) d'établir des liens structures/propriétés et (iii) identifier les méthodes de dépôts présentant les performances optimales.
Des déplacements de courte durée en France et à l'étranger sont à prévoir.
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