Alternance:optimisation Des Masques de Lithographie - Grenoble, France - CEA - Commissariat à l'Energie Atomique

CEA - Commissariat à l'Energie Atomique

Entreprise vérifiée

Grenoble, France

il y a 3 semaines

Posté par:

Sophie Dupont

beBee Recruiter

Description

**Domaine**:
Technologies micro et nano

**Contrat**:
Alternance

**Durée du contrat (en mois)**:
36 max

**Description de l'offre**:
**Cadre et contexte**:
**Travail demandé**:

- Identifier un ensemble de patterns représentatifs des dessins photonique
- Acquérir et traiter des données de microscopie électronique (SEM) post-lithographiques
- Calibrer des modèles par le biais de solution logicielles : plusieurs méthodologies de calibration pourront être testées afin d'évaluer par exemple des solutions permettant de limiter le nombre données d'entrée nécessaire à la calibration
- Vérifier la cohérence des domaines de définition des modèles par métrologie SEM post-lithographique
- (Optionnel) : Analyser l'impact de l'amélioration du modèle sur les fonctionnalités des objets photoniques

Pour ce faire, vous travaillerez avec différents logiciels dédiés à la métrologie et l'OPC. Ces travaux s'effectueront en lien avec les équipes de lithographie et de métrologie de la salle blanche, ainsi qu'avec le département applicatifs du CEA-LETI.

**Savoirs faire mis en œuvre**:

- Technologies : Photonique, Microélectronique, Lithographie Optique, Métrologie CDSEM
- Outils de développement, logiciels : Calibre (Mentor) - OPCC (acquisition des donnée SEM) - SIMPL (métrologie contour) - Python

Ecole ingénieur ou master : Photonique ou Microélectronique

**Localisation du poste**:
**Site**:
Grenoble

**Localisation du poste**:
France, Auvergne-Rhône-Alpes, Isère (38)

**Ville**:
Grenoble

**Demandeur**:
**Disponibilité du poste**:
01/09/2023